M-HP 200 Hotplate
- Ausführung Top Table oder Einbaumodul
- 8“ Wafer bzw. 6“x6“ Substrate
- Heizleistung 600 Watt
- Prozesszeit von 1 bis 9999 Sekunden
- Die Hotplate ist für Wafer bis 8“ bzw. für Substrate von 6“x6“ geeignet.
- Das Einbaumodul kann leicht in Wetbenches oder Digestorien integriert werden.
- Die Prozessparameter (Temperatur,Heizzeit) können jederzeit geändert werden.
Abmessungen - Stand Alone
Technische Änderungen vorbehalten
Abmessungen - Einbaugerät
Technische Änderungen vorbehalten
Technische Daten
- Wafer Größen:
Wafer bis zu 8″
Substrate bis zu 6″x6″ - Temperaturbereich:
20°C bis 250°C einstellbar - Heizleistung:
600 Watt - Heizzeiten:
von 1 bis 9999 sec (parametrierbar nach Kundenwunsch) - Deckel:
Material Edelstahl - Heizfläche:
Heizplatte aus Aluminium, eloxiert
Zubehör
- Lift-Pins
- Vakuum
- Vakuumpumpe
- N2-Spülung
Produktunterlagen
